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【M-320XG】ANELVA渠道商介绍,PVD（Physical Vapor Deposition）技术，其实是制备薄膜材料的主要技术之一。用于制备薄膜材料的物质被称为PVD镀膜材料。经过多年发展，PVD 镀膜技术被广泛用于应用于电子、光学、机械、建筑、材料等领域。

PVD基本方法包括真空蒸发、溅射、离子镀，其中，溅射镀膜和真空蒸发镀膜是最主流的两种PVD镀膜方式。

溅射镀膜

溅射镀膜是指在真空室中，利用荷能粒子轰击靶材表面，通过粒子动量传递打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基体上形成薄膜的技术。溅射镀膜技术具有可实现大面积快速沉积，薄膜与基体结合力好，溅射密度高，膜层可控性和重复性好等优点，而且任何物质都可以进行溅射，因而近年来发展迅速，应用广泛。溅射靶材广泛应用于半导体芯片、平面显示器、太阳能电池、信息存储、工具改性、电子器件等领域。

溅射靶材制造所涉及的工序精细且繁多，工序流程管理及制造工艺水平将直接影响到溅射靶材的质量和良品率。此环节是在溅射靶材产业链条中对生产设备及技术工艺要求**的环节，溅射薄膜的品质对下游产品的质量具有重要影响。

在溅射镀膜过程中，溅射靶材需要安装在机台中完成溅射反应，溅射机台专用性强、精密度高，市场长期被美国、日本跨国集团垄断，主要设备提供商包括AMAT（美国）、ULVAC（日本）、ANELVA（日本）、Varian（美国）、ULVAC（日本）等行业内知名企业。

真空蒸发镀膜和蒸镀材料

真空蒸发镀膜是指在真空条件下，通过蒸发源加热蒸发某种物质使其沉积在基板材料表面来获得薄膜的一种技术，被蒸发的物质被称为蒸镀材料。

真空蒸发镀膜技术，也是应用广泛的镀膜技术，主要应用于光学元器件、LED、平板显示和半导体分立器的镀膜。

两相比较

蒸发镀膜简单便利、操作方便、成膜速度快。从工艺制造角度上来看，蒸镀材料的制造复杂度要远远低于溅射靶材，但蒸发镀膜常用于小尺寸基板材料的镀膜。

溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点。

市场对溅射靶材这一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，溅射靶材亦已成为目前市场应用量**的PVD镀膜材料。

美、日垄断，中国崛起

高纯溅射靶材是伴随着半导体工业的发展而兴起的，属于典型的技术密集型产业，产品技术含量高，研发生产设备专用性强。美国、日本的半导体工业相继催生了一批高纯溅射靶材生产厂商，如日矿金属、霍尼韦尔、东曹、普莱克斯、住友化学，并于当前居于全球市场的主导地位。

大陆OLED 产线如雨后春笋，蒸镀设备一机难求OLED（有机发光二极管）显示技术具有自发光、广视角、几乎无穷高的对比度、较低耗电、极高反应速度等优点，因此被广泛应用于手机、数码摄像机、笔记本电脑、电视等。

三星是最早**手机OLED显示屏发展的企业，国内厂商如京东方、和辉光电、华星光电、信利以及深天马等企业纷纷加速 OLED 技术研发，布局 OLED 产线。

Sunic OLED 蒸镀设备

OLED 工艺技术壁垒极高，关键设备几乎被日本、韩国和美国所垄断，且设备价格昂贵，目前市场上企业格局为“一超多强”。

由于稳定量产与技术成熟方面的优势，目前全球蒸镀机生产几乎被日本Canon Tokki垄断。对于国内很多 OLED 产线来说，蒸镀设备真的是“一机难求”。

目前，Canon Tokki一年生产出的7台蒸镀机中，有5台给了三星，LGD和京东方各占一台，Canon Tokki也在积极扩充产线。

日本的ULVAC，韩国的SFA和SNU紧追不舍，虽然与Canon Tokki这种垄断巨头相比还有不小的差距，但是也在大力研发，积极创新。



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