6RA8087-6DS22-0AA0 直流调速器 -行业资讯

6RA8087-6DS22-0AA0 直流调速器
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磨料在CMP抛光液中的作用
抛光磨料是CMP集成电路抛光液中的主要成分，在抛光过程中通过微切削、微擦划、滚压等方式作用于工件表面，达到机械去除材料的作用。化学机械抛光液根据磨料成分一般分为单一磨料抛光液，混合磨料抛光液，复合磨料抛光液磨料在CMP抛光过程中起到的作用为 1机械作用的实施者，起机械磨削作用； 2传输物料的功能，不仅将新鲜浆料传输至抛光垫与被抛材料之间，还将反应物带离材料表面，使得材料新生表面露出，进一步反应去除。所以选...

CMP抛光液中磨料对抛光效果的影响
磨料对抛光效果的影响在CMP抛光过程中磨料的作用是借助机械力，通过化学反应去除工件或晶圆表面形成的钝化膜，从而达到表面平坦化的目的。CMP化学机械抛光液常用的磨料有硅溶胶SiO2、氧化铝Al2O3、氧化铈CeO2、金刚石等。磨料的种类磨料的种类和材质决定了化学机械抛光液中微粒的硬度和粒径，从而影响拋光效果。抛光铝合金工件实验中相对于氧化铝抛光液Al2O3磨料，氧化硅抛光液SiO2磨料能获得较好的表面平整度、更少的表面划痕和...

什么是单一磨料的CMP抛光液？
单一磨料CMP抛光液化学机械CMP抛光液在研究初期大多是使用单一磨料，如氧化铝抛光液Al2O3、二氧化硅抛光液SiO2、二氧化铈抛光液CeO2、氧化锆抛光液ZrO2和金刚石抛氧化铝抛光液--Al2O3的硬度高，多用于蓝宝石、碳化硅、光学玻璃、晶体和合金材料的抛光，但含Al2O3的抛光液会出现选择性低、分散稳定性不好、易团聚的问题，容易在抛光表面造成划伤，一般需要配合各种添加剂使用才能获得良好的抛光表面。氧化硅抛光液--S...

什么是混合磨料抛光液？
混合磨料抛光液抛磨工件材质的升级和发展，对镜面要求越来越高，单一的磨料已无法满足CMP行业需求，研究人员开始尝试将不同粒径、不同形貌的一种或多种粒子组合到一起使用，开发出混合型抛光液。比如混合氧化硅抛光液，在大粒径二氧化硅中加入小粒径的氧化硅，能明显提高抛光速率，且粒径相差越大提升率越高，这是因为磨料在总的质量分数不变的条件下，增大小粒径磨料的占比能增加硅溶胶颗粒的总体数量，从而起到了提高抛光速率的...