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光化学氧化技术属于**氧化工艺，是新兴的现代水处理技术，该技术通过氧化剂（O3、H2O2等）在紫外（或可见）光的激发和催化剂(Fe2+、Fe3+ 、半导体等)的催化作用下，产生具有强氧化性的羟基自由基，羟基自由基的标准氧化电位达2.8eV，是除元素氟以外最强的氧化剂，能无选择地将绝大多数有机物彻底氧化成CO2、H2O和其它无机物，反应速度快，耗时短，反应条件温和（常温、常压），操作条件易于控制，无二次污染。印染废水中染料的颜色来源于染料分子的共扼体系—含不饱和基团-N=N-、-N=O等的发色体，光化学氧化产生的羟基自由基能够**打破共扼体系结构，使之变成无色的有机分子，并进一步矿化为H2O、CO2和其他无机物质。光化学氧化工艺上的特点和染料的分子结构特征决定了光化学氧化技术在印染废水处理方面具有其他工艺所无可比拟的优势。
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