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　　0100-09172 A AMAT板卡渠道商介绍，CINNO Research 产业资讯，全球**半导体设备企业Applied Materials（AMAT）将提速中止EUV Blank mask开发。EUV Blank mask是随着次世代半导体制程EUV曝光方式走红后重生的事业。作为全球**的半导体设备厂商AMAT持续寻求新的生长动能，而韩国外乡企业对相关材料的停顿却缓不济急。

　　7月14日产业资讯，全球**大半导体厂商，也是市占率高达20%的公司AMAT正在中止EUV Blank mask开发。Blank mask是指半导体曝光制程所用的未绘制电路Pattern状态的光罩。曝光制程是提早将半导体电绘制到光罩之后中止光反射或透射反复印制在晶圆的过程。类似于是画底图，为控制光源绘制电路，光罩式必不可少的中心。

　　普通来说是先制造出空白光罩即Blank mask之后再对其中止pattern绘制。而作为次世代半导体制程的EUV是容易被气体、液体、固体所吸收的光源，Blank mask的制造也是非常特殊。

　　普通的曝光制程基本采用ArF光源，以便光源透射。但EUV光罩是经过叠加80层左右的Mo（钼）和Si（硅）以反射EUV光源。所以业界以为EUV Blank mask是一种新事业范畴。

　　业界人士表示：AMAT着手Blank mask已有3年时间，主要是在新加坡主导中止开发。公司以为有利于应用原设备，才会选择Blank mask作为新事业开拓。公司为了尽早完成技术量产，也在和韩国光罩厂商中止协作。

　　但业界评论，量产或仍需时间。业界专家以为产品量产普通都要耗时10~20年，研发应该还需时间。而即使量产之后，能否能抓住客户也是一个难题。Blank mask基本已被日本HOYA、AGC Glass独供到三星和英特尔，EUV产业链本身也是几乎被HOYA在主导。

　　业界以为，哪怕技术展开成功也将难超越日本。当然，随着EUV时期的到来，也会有很多Blank mask的需求，AMAT依然还有胜算。

　　AMAT公司对外表示：公司已在中止研发，但暂无法告知细致内容。

　　对AMAT着手EUV Blank mask，韩媒评论：连AMAT这种全球**的企业都不遗余力的中止研发以应对新EUV技术。但国内对此的外乡化却是缓不济急。韩国中小企业虽有中止EUV检查设备、Pellicle、光罩等开发，但相较日本依然落后。以致也有人质疑若日本将出口限制名单中增加Blank mask时，问题将会愈加险峻。若韩国产业链企业能积极协作以确保外乡技术才干，亡羊补牢，为时不晚。

资讯来源：汕头罗克自动化