楼体亮化设计公司|价格划算的楼体亮化设计资讯
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电子束直写系统 、 电子束曝光系统
CABL-9000C series
30kV、50kV、90kV、110kV、130kV
2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸
纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是好的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供 的电子束纳米光刻EBL系统,或称电子束直写EBD、电子束爆光系统。
型号包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000...高精度多铁磁电测试多铁材料磁电磁阻测试仪 aixPES-MR
MagnetoResistive Measurement
本系统主要用于研究磁阻和铁性材料。
本系统提供连续电流激励和测试,样品上的电压降通过高精度四点测试。
测试磁体可以选择亥姆赫兹线圈、可变磁体、超导磁体等。
技术说明
电压范围10V、500mV、5mV在16bit分辨率下,.欣源科技北京|||高精度多铁磁电测试
,精度优于1%;
电流范围 /- 30mA或500μA,分辨能力15nA;
测试器件的大阻抗1MΩ;
测试器件的小阻抗10mΩ。...
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