半导体级SiC合成原料6N超高纯度石墨粉 西格里V2298 耐高温导电
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半导体级SiC合成原料6N超高纯度石墨粉 西格里V2298 耐高温导电
产品概述
西格里6N超高纯度石墨粉是专为第三代半导体碳化硅(SiC)单晶生长研发的核心原料,纯度达99.9999%(6N级),严格符合半导体行业对痕量杂质(硼、铝、钒等)的ppm级控制要求。本产品采用德国西格里集团专利提纯工艺,结合高温热化学处理技术,确保纳米级颗粒均匀性(D50≤1μm),适用于物**相传输法(PVT)生长高质量SiC晶体,满足新能源汽车、5G通信、光伏等高端领域需求[[3]。
核心特性
1. 超高纯度与稳定性
通过2700℃高温提纯及多级化学纯化工艺,金属杂质含量低于0.1ppm,氮浓度≤5ppb,**避免SiC晶体电学性能劣化,为制备半绝缘衬底提供可靠保障[[7]。
2. 耐极端高温环境
石墨粉在2000~2500℃的SiC晶体生长炉中表现优异,热膨胀系数低至4.5×10⁻⁶/℃,可长期耐受高温熔融硅蒸汽环境,确保晶体生长过程稳定性[[6]。
3. 优异导电与热导性能
电阻率≤15μΩ·m,热导率高达120W/(m·K),适配高频功率器件对材料导电和散热需求,广泛应用于SiC外延片、MOSFET及IGBT芯片制造[[5]。
应用场景
- SiC单晶衬底合成:作为PVT法核心碳源,与高纯硅粉反应生成SiC微粉,用于4H-SiC导电型及半绝缘型晶圆生产[[4]。
- 半导体设备关键部件:用于制造长晶炉石墨坩埚、加热器等耐高温组件,保障设备在极端工况下的使用寿命[[8]。
工艺与质量认证
本产品通过ISO 9001质量管理体系认证,符合《碳化硅单晶用高纯石墨粉》行业标准(碳含量≥99.9996%),支持定制粒径(800~15000目)及微量元素控制,满足客户差异化需求。
“现货直发/支持试样”;针对科研客户,可补充“提供XRD、GDMS全项检测报告”等增值服务。
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生产基地:浙江省宁波市慈溪市滨海四路325号
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产品名称: | 半导体级SiC合成原料6N超高纯度石墨粉 西格里V2298 耐高温导电 | 地 区:浙江 宁波 等 级: 参考价格:200 认 证: 规 格: 供货数量:10000 供货能力: 发布日期:2025-03-12 09:47:24 有 效 期:长期有效 发布用户:honsin2025 发 布 IP:114.83.63.41
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企业管理制度汇编-北京管理制度Management System是非常个性化的,和企业自身历史和文化分不开,无法全部照搬的。借鉴学习其他企业管理制度时,企业要巧学活用,不能生搬硬套。我们围绕企业自身的实际,引进先进企业的管理理念,借鉴他们的管制制度和管理经验,追求企业自身的管理创新,统一企业上下认识,管理制度应该得到全体员工的认可,这样员工才会主动参与管理,支持管理制度落实和执行。
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什么是光氧催化净化装置?
UV光解空气净化器是利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体,裂解恶臭气体的装置。
光氧催化净化装置的工作原理是什么?
光催化氧化净化原理
①特制紫外线灯
利用特制的高能...电子厂臭气处理UV紫外光光催化除臭设备某电子厂主要生产电解电容,五金来料加工,工艺中有加温和焊锡等工艺,期间产生大量一氧化碳、二氧化碳、氮氧化物、甲烷、烃类等废气,废气成分种类多,浓度较高,处理比较难。在森然环保的技术员实地考察和结合同类型的案例后,决定使用UV光催化除臭设备处理。
电子厂臭气处理工艺
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